[实用新型]X射线放大成像系统有效
| 申请号： | 201520243657.0 | 申请日： | 2015-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN204536232U | 公开（公告）日： | 2015-08-05 |
| 发明（设计）人： | 孙天希;孙学鹏;须颖;董友;孙志国 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学;天津三英精密仪器有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/20 | 分类号： | G01N23/20 |
| 代理公司： | 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 | 代理人： | 苗源;李冬梅 |
| 地址： | 100875 北京市海淀区新街*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种X射线放大成像系统，该X射线放大成像系统包括：X射线光源；X射线光源透镜，其入口端设置有X射线光源，用于会聚X射线光源发射的X射线并得到用于照射样品的微焦斑相干光源；相位放大光栅，设置于样品之后，用于收集并调制照射样品后的X射线并产生衍射自成像效应；分析吸收放大光栅，设置于相位放大光栅之后，位于衍射自成像效应对应的自成像平面位置处，用于收集并处理来自相位放大光栅的X射线，将其中的相位信息转换为可识别的光强信息；X射线探测器，设置在分析吸收放大光栅之后，靠近分析吸收放大光栅的出口端，用于探测并收集样品的信息。本实用新型能大幅提高该X射线放大成像系统的分辨率和使用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 放大 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种X射线放大成像系统，其特征在于，包括：X射线光源(1)；X射线光源透镜(2)，其入口端设置有所述X射线光源(1)，用于会聚所述X射线光源(1)发射的X射线并得到用于照射样品(4)的微焦斑相干光源(3)；相位放大光栅(5)，设置于所述样品(4)之后，用于收集并调制照射所述样品(4)后的X射线并产生衍射自成像效应；分析吸收放大光栅(6)，设置于所述相位放大光栅(5)之后，位于所述衍射自成像效应对应的自成像平面位置处，所述分析吸收放大光栅(6)用于收集并处理来自所述相位放大光栅(5)的X射线，将其中的相位信息转换为可识别的光强信息；X射线探测器(7)，设置在所述分析吸收放大光栅(6)之后，靠近所述分析吸收放大光栅(6)的出口端，用于探测并收集所述样品(4)的信息。
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