[实用新型]用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置

摘要

本实用新型涉及高真空和超高真空设备系统的配置，具体涉及了一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，包括掩膜板传递装置、掩膜板、可拆卸样品托、挡板、冷却水管和样品传递杆，该装置与薄膜沉积设备形成一个整体，处于完全密封的状态，样品的装载与卸载不需要中断设备系统的高真空或超高真空状态；样品固定方便可靠，不会在工艺过程中由于样品台的原位旋转或相对运动而脱落，并且不受工艺过程，如原位高温退火时的热辐射影响；掩膜板的位置可以相对于样品台位置进行精确调整，可以精确控制掩模板与样品(夹具)之间间距为分离或贴合状态；掩模板可以相对于样品台做定位位移，也可以做连续位移；掩膜板及其运动控制不受高温工艺影响。

主权项

一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，包括掩膜板传递装置(1)、掩膜板(2)、可拆卸样品托(3)、挡板(4)、冷却水管(5)、样品传递杆(6)和与掩膜板(2)相应的固定插板(21)；固定插板(21)通过第一支持杆(23)设置在样品台的转轴上，掩膜板(2)通过支架滑动安插在掩膜板传递装置(1)中；冷却水管(5)设置在挡板(4)的两侧和顶端，冷却水管(5)的两端均设有不锈钢软管,不锈钢软管的末端与真空法兰流体馈穿导件相连通，冷却水管(5)通过不锈钢软管和真空法兰流体馈穿导件与沉积室外部冷却循环水路形成闭路连接；挡板(4)设置在沉积室内；样品传递杆(6)设置在掩膜板(2)的一侧，样品传递杆(6)的进样端设有与可拆卸样品托(3)相应的转换接头(61)。