[实用新型]一种真空压力计

摘要

本实用新型涉及一种真空压力计，用于测量硅片工艺反应腔内的真空压力值，包括相互连接的薄膜和电容结构，还包括依次连接的测量电路、比较输出电路以及调压电路，测量电路测量工艺反应腔的零点电压值，并将其反馈至比较输出电路，比较输出电路将采集的零点电压值与预设的电压值进行比较，并将电压差值输送至调压电路，调压电路根据电压差值调整输出电压的大小，以使工艺反应腔的零点电压值与预设的电压值相等。本实用新型能够防止真空压力计出现零点电压值漂移的现象，可及时的发现漂移问题并对真空压力计进行校准，提高了产品的良率，保证了真空压力计测量的准确性。

主权项

一种真空压力计，用于测量硅片工艺反应腔内的真空压力值，包括相互连接的薄膜和电容结构，所述薄膜用于在真空压力的作用下产生形变，所述电容结构根据所述薄膜产生的形变计算出反应腔内的真空压力值，其特征在于，所述真空压力计还包括：测量电路，所述测量电路的输入端与所述电容结构连接，用于测量并反馈工艺反应腔的零点电压值；比较输出电路，所述比较输出电路的输入端与所述测量电路的输出端连接，用于接收零点电压值，并将其与预设的电压值进行比较，输出电压差值；调压电路，所述调压电路的输入端与所述比较输出电路的输出端连接，所述调压电路的输出端连接所述电容结构，所述调压电路根据电压差值，调整输出电压的大小，以使工艺反应腔的零点电压值与预设的电压值相等。