[发明专利]钕铁硼永磁体的表面处理方法

摘要

本发明公开了一种钕铁硼永磁体的表面处理方法，依次包括预处理、形成结晶层、钝化、封皮、冷热处理等步骤。该表面处理方法经过优化，所用材料均为市场上常见的材料，摒弃了传统处理方法中不易得到和较为昂贵的材料，重点通过优化工艺步骤和技术参数而得到，从而成本较低，且易于掌握。同时，方法中包含有高低温处理的方式，进一步提升了表面层的晶体布局和密度。经实验验证，经该方法处理的钕铁硼永磁体具有较佳的防腐蚀能力。

主权项

钕铁硼永磁体的表面处理方法，依次包括以下步骤：(1)预处理：在钕铁硼永磁体表面依次采用去离子水清洗2～3min、采用等重量比的浓度为3～6％的稀硝酸和浓度为2～3％的盐酸的混合液体浸泡60～80s、采用浓度为3～5％的乙酸浸泡3～4min、采用用5‑8％的稀硫酸活化处理30～40s、采用浓度为3～5％的乙酸浸泡3～4min；(2)形成结晶层：将预处理过的钕铁硼永磁体放入处理液中浸泡6～8min，然后在空气中晾干，其中，以重量份计，处理液为：磷酸80～82份，去离子水6～8份，表面活性剂0.1份，草酸0.6份以及缓蚀剂0.5份，且浸泡温度为38～41℃，磷酸、草酸均为工业级纯度；(3)钝化：将钕铁硼永磁体浸渍在体积浓度为40～120ml/L、温度为室温的1，2‑双(三乙氧基硅基)乙烷水溶液中，进行初步钝化10～15min，将初步钝化的钕铁硼永磁体用去离子水清洗后晾干，放入具有质量浓度为6～8g/L的硝酸铈、质量浓度为2～5g/L的硝酸钕的水溶液中进行再次钝化，再次钝化的温度为室温、钝化时间为10～15min，之后，室温晾干；(4)封皮：采用物理气相沉积处理的方式形成沉积膜，其中，靶功率为300～1000W，气压为0.3～1.0Pa，物理气相沉积膜的厚度为5～10um；(5)冷热处理：将封皮后的钕铁硼永磁体放置于60～80℃的热水内持续10～20min，然后在2min内放至冰水混合液内持续10～20min，取出后自然放至室温。