[发明专利]钕铁硼永磁体的表面处理方法

权利要求书

1.钕铁硼永磁体的表面处理方法，依次包括以下步骤：

(1)预处理：在钕铁硼永磁体表面依次采用去离子水清洗2～3min、采用 等重量比的浓度为3～6％的稀硝酸和浓度为2～3％的盐酸的混合液体浸泡 60～80s、采用浓度为3～5％的乙酸浸泡3～4min、采用用5-8％的稀硫酸活化处 理30～40s、采用浓度为3～5％的乙酸浸泡3～4min；

(2)形成结晶层：将预处理过的钕铁硼永磁体放入处理液中浸泡6～8min， 然后在空气中晾干，其中，以重量份计，处理液为：磷酸80～82份，去离子 水6～8份，表面活性剂0.1份，草酸0.6份以及缓蚀剂0.5份，且浸泡温度为 38～41℃，磷酸、草酸均为工业级纯度；

(3)钝化：将钕铁硼永磁体浸渍在体积浓度为40～120ml/L、温度为室 温的1，2-双(三乙氧基硅基)乙烷水溶液中，进行初步钝化10～15min，将初步 钝化的钕铁硼永磁体用去离子水清洗后晾干，放入具有质量浓度为6～8g/L的 硝酸铈、质量浓度为2～5g/L的硝酸钕的水溶液中进行再次钝化，再次钝化的 温度为室温、钝化时间为10～15min，之后，室温晾干；

(4)封皮：采用物理气相沉积处理的方式形成沉积膜，其中，靶功率为 300～1000W，气压为0.3～1.0Pa，物理气相沉积膜的厚度为5～10um；

(5)冷热处理：将封皮后的钕铁硼永磁体放置于60～80℃的热水内持 续10～20min，然后在2min内放至冰水混合液内持续10～20min，取出后自然 放至室温。