[发明专利]一种硅基等离子体超宽频带太赫兹波吸收器有效

专利信息
申请号: 201510991992.3 申请日: 2015-12-24
公开(公告)号: CN105609963B 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 程用志;李维刚;刘超 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: H01Q17/00 分类号: H01Q17/00
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 冯子玲
地址: 430081 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种硅基等离子体超宽频带太赫兹波吸收器,所述太赫兹波吸收器包括呈周期性阵列排列的基本单元,基本单元具有正面呈正方形,所述正面具有凹陷的四棱锥,基本单元之间无缝连接,所述太赫兹波吸收器的材料是磷掺杂的n型硅片或者其他半导体材料。本发明提出的硅基等离子体超宽频带太赫兹波吸收器,通过向凹陷的结构设计,产生宽频等离子体谐振效应,增强了吸收率,同时大大提高了相对带宽,简化工艺流程,降低制作成本。
搜索关键词: 一种 等离子体 宽频 赫兹 吸收
【主权项】:
1.一种硅基等离子体超宽频带太赫兹波吸收器的基本单元,其特征在于,所述基本单元为正面呈正方形的长方体,所述正面具有凹陷的立体几何图形;所述立体几何图形是棱锥、圆锥、圆柱或者长方体;所述棱锥或圆锥的倾斜角度(α)≥20°;所述基本单元的周期性长度(p)为50‑300μm、厚度(ts)为50‑500μm,所述立体几何图形的缺口长度(l)为48‑290μm、缺口深度(h)为25‑250μm,所述立体几何图形的缺口长度(l)小于等于所述基本单元的周期性长度(p),所述立体几何图形的缺口深度(h)小于所述基本单元的厚度(ts);所述基本单元的材料是半导体;所述半导体的生长取向为(100)、电阻率为0.01‑0.8Ωcm;所述半导体是磷掺杂的n型硅片或者硼掺杂的n型硅片。
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