[发明专利]可见光下CuCl纳米晶体光催化降解染料污染物的技术有效
| 申请号： | 201510959406.7 | 申请日： | 2015-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN105561516B | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | 贾巧娟;黄琦苏;顾凤龙;秦笑梅 | 申请（专利权）人： | 郑州轻工业学院 |
| 主分类号： | A62D3/17 | 分类号： | A62D3/17;A62D101/26;A62D101/28 |
| 代理公司： | 郑州优盾知识产权代理有限公司 41125 | 代理人： | 孙诗雨 |
| 地址： | 450002 *** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种CuCl纳米晶体光催化降解染料污染物的技术，包括以下步骤：（1）将配体分子和CuSO4按照比例溶于水中；用碱性溶液调节溶液的pH值为5‑12；（2）加入一定量的盐酸羟胺还原，加热至40‑100℃进行充分反应；（3）冷却至室温，分离得到产物；（4）配制一定比例的CuCl纳米晶体和染料有机污染物的混合溶液；加入一定比例的H2O2；可见光照射下反应一定时间。本发明的技术操作简便，条件温和，成本低，所制备的CuCl纳米晶体结晶度高，具有优异的光催化性能，可见光催化下对染料类有机污染物能够深度矿化降解。同时所制备的CuCl纳米晶体具有优异的光催化稳定性，多次循环使用后对染料有机污染物仍具有良好的降解效果。 | ||
| 搜索关键词： | 可见光 cucl 纳米 晶体 光催化 降解 染料 污染物 技术 | ||
【主权项】：
1.一种可见光下CuCl纳米晶体光催化降解染料污染物的技术，其特征在于，包括以下步骤：（1）将配体分子和CuSO4按照比例溶于水中；用碱性溶液调节溶液的pH值为5‑12；（2）加入一定量的盐酸羟胺还原，加热至40‑100℃进行充分反应；（3）冷却至室温，分离得到产物；（4）配制一定比例的CuCl纳米晶体和染料有机污染物的混合溶液；加入一定比例的H2O2；可见光照射下反应一定时间；所述CuCl纳米晶体重复使用数次后仍能实现对污染物的85%降解率；步骤（1）中所述的配体分子为聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮、十六烷基三甲基溴化铵、十二烷基硫酸钠、硬脂酸、脂肪酸甘油酯、柠檬酸钠中的至少一种。
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