[发明专利]一种制备均匀大面积单一取向性的ZnO六角微盘的方法在审

专利信息
申请号: 201510928470.9 申请日: 2015-12-15
公开(公告)号: CN105369341A 公开(公告)日: 2016-03-02
发明(设计)人: 陈三;朱光平;杨远贵;耿磊;路洪艳 申请(专利权)人: 淮北师范大学
主分类号: C30B7/00 分类号: C30B7/00;C30B29/16;C30B29/60
代理公司: 北京高航知识产权代理有限公司 11530 代理人: 李浩
地址: 235000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种制备均匀大面积单一取向性ZnO六角微盘的方法,在常压下,用Zn微滴液相成核生长方法制备ZnO微盘,制备过程中无需添加任何其他催化剂,ZnO微盘作为增益介质和激光谐振腔,构建微腔激光器,实现低阈值紫外光受激辐射。本发明在常压下直接在大气中生长,无需对真空度和反应气体及载气精确控制,无需添加任何其他催化剂,所用的设备和方法简单可行;制备的ZnO微盘尺寸分散小,结晶质量高,高度的取向性生长,微盘各晶面具有原子尺度上的平整度,可显著降低光散射损失,生长的微盘尺寸较大,有利于提高Q因子,降低激射阈值;克服了现有技术中微腔的微加工方法较复杂,使用设备昂贵,刻蚀表面较粗糙,光散射损失严重,不利于降低激射阈值的问题。
搜索关键词: 一种 制备 均匀 大面积 单一 向性 zno 六角 方法
【主权项】:
一种制备均匀大面积单一取向性ZnO六角微盘的方法,其特征在于:在常压下,用Zn微滴液相成核生长方法制备ZnO微盘,制备过程中无需添加任何其他催化剂,ZnO微盘作为增益介质和激光谐振腔,构建微腔激光器,实现低阈值紫外光受激辐射。
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