[发明专利]一种制备均匀大面积单一取向性的ZnO六角微盘的方法

权利要求书

1.一种制备均匀大面积单一取向性ZnO六角微盘的方法，其特征在于：在常压下，用Zn微滴液相成核生长方法制备ZnO微盘，制备过程中无需添加任何其他催化剂，ZnO微盘作为增益介质和激光谐振腔，构建微腔激光器，实现低阈值紫外光受激辐射。

2.根据权利要求1所述的制备均匀大面积单一取向性ZnO六角微盘的方法，其特征在于：所述Zn微滴液相成核生长方法是指：用高纯锌粉作为反应原材料，以大气中的氧气作为反应气体，单晶硅片（100）作为衬底，无需通反应气体O₂和传输气体N₂，设定温度780～785℃，将锌粉蒸发为锌蒸汽，利用在空气气氛中Zn蒸汽扩散距离短，有利于在局域空间形成较高的过饱和蒸气压，在衬底上形成大量Zn液滴，ZnO在Zn液相中成核并生长，因ZnO晶体能量和Zn液滴表面能的竞争，实现ZnO晶体{100}面的生长速率大于（001）面的生长速率，获得尺寸均匀、单一取向的大面积ZnO的微盘阵列。

3.根据权利要求2所述的制备均匀大面积单一取向性ZnO六角微盘的方法，其特征在于：所述高纯度锌粉为大于等于99.99%的锌粉。

4.根据权利要求2所述的制备均匀大面积单一取向性ZnO六角微盘的方法，其特征在于：所述ZnO微盘作为增益介质和激光谐振腔，构建微腔激光器，实现低阈值紫外光受激辐射，制备的ZnO微盘为正六边形ZnO微盘，为单晶铅锌矿结构，各晶面具有原子尺度的平整度，可显著降低光的散射损失，ZnO微盘作为增益介质和激光谐振腔，构建微腔激光器，实现低阈值紫外光受激辐射。