[发明专利]压环及半导体加工设备在审

专利信息
申请号: 201510925349.0 申请日: 2015-12-14
公开(公告)号: CN106876316A 公开(公告)日: 2017-06-20
发明(设计)人: 郭浩;赵梦欣;郑金果;侯珏;荣延栋 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 彭瑞欣,张天舒
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供的压环及半导体加工设备,其包括相互嵌套、且连为一体的外环部和内环部,其中,外环部的内径大于晶片的直径;在内环部的内径小于晶片的直径,且内环部的下表面被划分为多个第一区域和多个第二区域,第一区域和第二区域沿内环部的周向相间排布,其中,第一区域与晶片上表面的边缘区域相贴合;在第二区域形成有凹槽,以使内环部在该第二区域处遮挡晶片上表面的边缘区域,且不与之相接触。本发明提供的压环,其可以解决晶片的侧面或背面沉积有金属镀膜的问题,从而可以改善工艺结果。
搜索关键词: 半导体 加工 设备
【主权项】:
一种压环,用于通过压住晶片上表面的边缘区域来固定所述晶片,其特征在于,包括相互嵌套、且连为一体的外环部和内环部,其中,所述外环部的内径大于所述晶片的直径;在所述内环部的内径小于所述晶片的直径,且所述内环部的下表面被划分为多个第一区域和多个第二区域,所述第一区域和第二区域沿所述内环部的周向相间排布,其中,所述第一区域与所述晶片上表面的边缘区域相贴合;在所述第二区域形成有凹槽,以使所述内环部在该第二区域处遮挡所述晶片上表面的边缘区域,且不与之相接触。
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