[发明专利]磁控溅射镀膜装置及其靶装置在审
| 申请号： | 201510825083.2 | 申请日： | 2015-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN105256281A | 公开（公告）日： | 2016-01-20 |
| 发明（设计）人： | 周涛 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;武岑飞 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于磁控溅射镀膜装置的靶装置，其包括：溅射靶材安装座(21)；靶材承载板(22)，设置在所述溅射靶材安装座(21)上，所述靶材承载板(22)用于承载靶材(24)；磁极装置(23)，设置在所述溅射靶材安装座(21)的背向所述靶材承载板(22)的表面上，所述磁极装置(23)用于在所述靶材(24)的表面产生水平磁场的；其中，所述磁极装置(23)与所述靶材承载板(22)的对应边沿具有预定间隔。本发明还公开一种具有该靶装置的磁控溅射镀膜装置。本发明可使靶材的材料整面均匀消耗，这样可以提高靶材的利用率，也可以使在基片上沉积的薄膜更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 镀膜 装置 及其 | ||
【主权项】：
一种用于磁控溅射镀膜装置的靶装置，其特征在于，包括：溅射靶材安装座(21)；靶材承载板(22)，设置在所述溅射靶材安装座(21)上，所述靶材承载板(22)用于承载靶材(24)；磁极装置(23)，设置在所述溅射靶材安装座(21)的背向所述靶材承载板(22)的表面上，所述磁极装置(23)用于在所述靶材(24)的表面产生水平磁场的；其中，所述磁极装置(23)与所述靶材承载板(22)的对应边沿具有预定间隔。
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