[发明专利]沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法有效
| 申请号： | 201510810629.7 | 申请日： | 2015-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN105624609B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 任星淳;黄圭焕;金在植;文敏浩;文英慜;张淳喆;姜泰旭 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04;H01L21/56 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;杨莘 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种沉积掩模包括具有多个图案孔的掩模主体；从所述掩模主体突出的多个突出物；以及形成在所述掩模主体中的多个凹槽，其中所述掩模主体的颗粒尺寸在约10nm至约1000nm的范围中，且其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种沉积掩模，包括：掩模主体，具有多个图案孔；多个突出物，从所述掩模主体突出；以及多个凹槽，形成在所述掩模主体中，其中所述掩模主体的颗粒尺寸在10nm至1000nm的范围中，且其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。
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