[发明专利]沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法

说明书

一种沉积掩模包括具有多个图案孔的掩模主体；从所述掩模主体突出的多个突出物；以及形成在所述掩模主体中的多个凹槽，其中所述掩模主体的颗粒尺寸在约10nm至约1000nm的范围中，且其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。

相关申请的交叉引用

本申请要求在韩国知识产权局于2014年11月21日提交的第10-2014-0163717号韩国专利申请的权益，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

一个或多个示例性实施方式涉及一种沉积掩模、一种制造沉积掩模的方法和一种制造显示装置的方法。

背景技术

基于移动性的电子装置具有广泛的用途。除了小的电子装置，如移动电话外，平板个人计算机(PC)最近已被用作移动电子装置。

移动电子装置包括用于将视觉信息，如图像或移动图像提供给用户以支持各种功能的显示单元。由于用于驱动显示单元的组件最近已变得更小，显示单元在电子装置中所占据的部分已有所增加，且已开发出显示单元的、可从平直状态进行弯曲以具有预定角度的结构。

为了形成上述显示单元，可使用各种方法形成各层中的每一层。在这个方面，形成每一层的方法可包括沉积方法、光掩模工艺等。

在沉积方法中，蒸发、喷涂和沉积沉积材料的工艺通常可包括将沉积源置于下部，将掩模置于沉积源上，将衬底置于掩模上并将已通过掩模的沉积材料沉积至衬底上。

同时，有必要对形成在掩模中并允许沉积材料通过的图案孔进行精细加工，从而制造具有大尺寸和高分辨率的显示装置面板。这种图案孔的精确度可决定沉积材料的图案的精确度。特别地，在显示单元的分辨率或其性能的方面上，沉积材料的图案是非常重要的问题且可确定产品质量。因此，使用了各种装置和方法来增加沉积材料的图案的精确度。

作为一个实例，沉积掩模的母金属通过轧制工艺且随后进行蚀刻或激光辐射工艺以加工图案孔而制造，且因此掩模被最终制造出来。

在该背景技术部分中公开的信息是发明人在实现本发明概念之前已知的或是在实现本发明概念的过程中所获得的技术信息。因此，其可含有不形成本国公众所已知的现有技术的信息。

发明内容

然而，当使用通过轧制工艺制造的沉积掩模的母金属来制造掩模时，会出现问题，即，图案孔不是在需要加工图案孔的区域中进行加工或在图案孔的形状中出现缺陷。

一个或多个示例性实施方式包括一种沉积掩模、一种制造沉积掩模的方法和一种制造显示装置的方法。

额外的方面将在下面的说明中部分地进行阐述且将部分地通过说明变得显而易见或可通过给定实施方式的实践而获悉。

根据一个或多个示例性实施方式，一种沉积掩模包括具有多个图案孔的掩模主体；从掩模主体突出的多个突出物；以及在掩模主体中形成的多个凹槽，其中掩模主体的颗粒尺寸在约10nm至约1000nm的范围中，且其中多个突出物的最大高度和多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。

掩模主体可包括含有在约30wt％至约50wt％的范围内的镍的因瓦合金。

掩模主体的厚度可在约5μm至约50μm的范围中。

多个图案孔的角部的曲率半径可小于用于加工多个图案孔的激光束的半径。

多个图案孔在水平方向上的单位面积沿多个图案孔的竖直方向上是不同的。

多个图案孔的内表面可包括倾斜表面。