[发明专利]激光直写用超分辨掩膜板及其制备方法

摘要

一种激光直写用超分辨掩膜板及其制备方法，该超分辨掩膜板的结构包括作为基底的盖玻片、相变薄膜层和介电保护层。该发明的膜层结构采用磁控溅射法制备，具有膜层结构简单，制备工艺可控性好等优点。采用本发明超分辨掩膜板，在不需要复杂的光机装置及真空设备的条件下就可以获得高分辨率的微纳图形结构，且因为超分辨掩膜板中相变薄膜的非线性吸收特性具有可逆性，使得该掩膜板可以重复使用，有效节约成本。

主权项

一种激光直写用超分辨掩膜板，特征在于其结构依次是单面抛光的盖玻片(1)、相变薄膜层(2)和介电保护层(3)，所述的盖玻片(1)的厚度为0.15‑0.2mm，所述相变薄膜层(2)的厚度为80‑100nm，所述介电保护层(3)的厚度为5‑20nm。