[发明专利]一种印刷型显示器件及其制作方法有效
申请号: | 201510764095.9 | 申请日: | 2015-11-11 |
公开(公告)号: | CN105428553B | 公开(公告)日: | 2018-09-18 |
发明(设计)人: | 陈亚文 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 510000 广东省广州市中*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种印刷型显示器件及其制作方法,所述方法包括:在图像化像素电极的TFT基板上形成一层制作像素bank薄膜;在bank薄膜上形成一层光阻;通过曝光掩膜对光阻进行曝光,利用显影技术将光阻图案化;通过光阻掩膜对像素bank薄膜进行刻蚀;通过印刷工艺依次沉积各色子像素发光元件,沉积电极,对器件进行封装。本发明中相同颜色子像素相连区域形成亲水性的较薄bank,保证了墨水的良好铺展;不同颜色子像素相连区域形成疏水性的较厚bank,防止墨水溢出,提高了印刷工艺的良品率,通过制作方法与像素结构的结合,简化了印刷型显示器的制作工艺。 | ||
搜索关键词: | 一种 印刷 显示 器件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种印刷型显示器件制作方法,其特征在于,方法包括:A、在图像化像素电极的TFT基板上形成一层制作像素bank薄膜;B、在像素bank薄膜上形成一层光阻;C、通过曝光掩膜对光阻进行曝光,利用显影技术将光阻图案化;D、通过光阻掩膜对像素bank薄膜进行刻蚀;E、通过印刷工艺依次沉积各色子像素发光元件,沉积电极,对器件进行封装;所述步骤A中的bank薄膜采用亲水材料与含氟疏水材料共混或是采用亲水材料与含氟疏水材料及光阻共混;步骤C中,所述通过曝光掩膜对光阻进行曝光,包括:对相同颜色子像素相连区域进行半曝光;对不同颜色子像素相连区域不曝光;所述步骤D包括:对像素bank薄膜的半曝光区域进行部分刻蚀,在相同颜色子像素相连区域形成呈亲水性像素bank;对像素bank薄膜的未曝光区域不刻蚀,在不同颜色子像素相连区域得到呈疏水性像素bank。
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