[发明专利]一种银纳米颗粒修饰硅表面拉曼增强基底的制备方法

摘要

本发明涉及了一种银纳米颗粒修饰硅表面拉曼增强基底的制备方法；将Si片在浓酸盐酸中进行表面清洁后清洗干燥；将获得的清洁硅片放置在3-氨基丙基三甲氧基硅烷的甲苯溶液中进行表面改性后清洗干净并自然干燥；采用硝酸银和氨水配置银氨溶液，将经表面改性的Si基底放置其中，控制反应温度和时间；将获得的基底用去离子水清洗，并自然干燥，即获得银纳米颗粒修饰硅表面的SERS基底。该制备方法基于原位还原原理，但所选还原剂能够同时对Si基底表面进行修饰改性，使得纳米粒子和基底结合更为牢靠的同时，能够提高对探针分子的吸附作用。可极大提高增强强度及基底的可重复性和稳定性。

主权项

 一种银纳米颗粒修饰硅表面拉曼增强基底的制备方法，其特征在于，包括如下步骤 ：（1）将Si片在浓酸盐酸中进行表面清洁后清洗干燥；（2）将步骤（1）获得的清洁硅片放置在3‑氨基丙基三甲氧基硅烷的甲苯溶液中进行表面改性后清洗干净并自然干燥；（3）采用硝酸银和氨水配置银氨溶液，将步骤（2）中经表面改性的Si基底放置其中，控制反应温度和时间；（4）将步骤（3）中获得的基底用去离子水清洗，并自然干燥，即获得银纳米颗粒修饰硅表面的SERS基底。