[发明专利]一种银纳米颗粒修饰硅表面拉曼增强基底的制备方法

权利要求书

1.一种银纳米颗粒修饰硅表面拉曼增强基底的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）将Si片在浓酸盐酸中进行表面清洁后清洗干燥；

（2）将步骤（1）获得的清洁硅片放置在3-氨基丙基三甲氧基硅烷的甲苯溶液中进行表面改性后清洗干净并自然干燥；

（3）采用硝酸银和氨水配置银氨溶液，将步骤（2）中经表面改性的Si基底放置其中，控制反应温度和时间；

（4）将步骤（3）中获得的基底用去离子水清洗，并自然干燥，即获得银纳米颗粒修饰硅表面的SERS基底。

2.根据权利要求1所述一种银纳米颗粒修饰硅表面拉曼增强基底的制备方法，其特征在于，步骤（1）中的清洗过程需在油浴加热至70-80℃条件下搅拌2h完成，搅拌速率为100-150r/min。

3.根据权利要求1所述一种银纳米颗粒修饰硅表面拉曼增强基底的制备方法，其特征在于，步骤（2）中表面修饰过程需将3-氨基丙基三甲氧基硅烷的甲苯溶液加热至70-80℃下搅拌完成，搅拌速率为100-150r/min，反应时间为12-48h。

4.根据权利要求1所述一种银纳米颗粒修饰硅表面拉曼增强基底的制备方法，其特征在于，步骤（3）中的银氨溶液浓度为1.0-1.5M，反应温度应控制在30℃；反映时间为12-48h。