[发明专利]提高同步磁阻电机凸极比的方法在审
| 申请号: | 201510728476.1 | 申请日: | 2015-11-01 |
| 公开(公告)号: | CN105356804A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
| 发明(设计)人: | 董砚;孙鹤旭;颜冬;荆锴;石乐乐;雷兆明;梁涛 | 申请(专利权)人: | 河北工业大学 |
| 主分类号: | H02P21/10 | 分类号: | H02P21/10 |
| 代理公司: | 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 | 代理人: | 胡安朋;付长杰 |
| 地址: | 300130 天津市红桥区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | 本发明涉及提高同步磁阻电机凸极比的方法,该方法是以同步磁阻电机固有的定子、转子结构参数为基础,直接从同步磁阻电机的等效d轴及q轴磁路入手得到凸极比的计算公式,同时通过该凸极比的计算公式进一步得到同步磁阻电机凸极比和待优化结构参数间的关系式,通过调整结构参数的取值范围得到更高的凸极比。本发明方法与有限元法相比,可大大减少所占用的计算机内存资源,同时降低了数学运算的难度,既能显著提高SynRM的凸极比,又能实现对SynRM的固有结构参数进行优化。 | ||
| 搜索关键词: | 提高 同步 磁阻 电机 方法 | ||
【主权项】:
提高同步磁阻电机凸极比的方法,其特征在于该方法的具体步骤是:第一步:确定SynRM的结构参数需要确定SynRM的结构参数包括:Ⅰ.测量得到SynRM的转子结构参数,包括绝缘屏障的层数m、相邻两层导磁硅钢片间的绝缘屏障宽度t、铁芯有效长度l,相邻两绝缘屏障间导磁硅钢片的宽度2t、各层绝缘屏障所在圆的圆心以及半径ri、各层绝缘屏障的张开角度θi、转子外径u;Ⅱ.测量确定SynRM的定子内径与转子外径间的气隙长度δ;第二步:d轴磁路总磁阻Rd的等效计算阻碍各层导磁硅钢片磁通流通的各个磁阻之间满足并联关系,通过式(1)等效计算d轴磁路总磁阻Rd:Rd=R1//R2//…//Rj//…… (1)其中,j表示为第j层导磁硅钢片,Rj表示阻碍第j层导磁硅钢片磁通流通的磁阻值,Rj通过式(2)得到:![]()
式中,μ0为真空磁导率,其值为4π×10‑7H/m;n为导磁硅钢片的层数;第三步:q轴磁路总磁阻Rq的等效计算阻碍磁通顺沿转子导磁硅钢片穿过定子内径与转子外径间的气隙的磁阻Ryi可用式(3)表示;阻碍穿过各层绝缘屏障的磁阻Rqi可用式(4)表示,而以q轴成对称分布的另一部分阻碍磁通顺沿转子导磁硅钢片穿过定子内径与转子外径间的气隙的磁阻R′yi依据式(3)计算得到:![]()
阻碍穿过各层绝缘屏障的磁阻R′qi依据式(4)计算得到:![]()
式(3)和式(4)中,i表示第i层绝缘屏障;m为绝缘屏障的层数;s0为导磁硅钢片b0所在区域的最大轴向面积;si为q轴总磁通垂直穿过第i层绝缘屏障的轴向面积;利用‘△‑Y’变换将等效q轴磁路的磁阻的关系进行简化,则经‘△‑Y’变换可得Ry(i+1)、Ryi、Rqi间满足式(5):![]()
式中,Ri1是关于阻碍磁通顺沿转子导磁硅钢片穿过定子内径与转子外径间的气隙的磁阻Ryi与阻碍穿过各层绝缘屏障的磁阻Rqi的函数,而包含有以q轴成对称分布的另一部分阻碍磁通顺沿转子导磁硅钢片穿过定子内径与转子外径间的气隙的磁阻R′yi与阻碍穿过各层绝缘屏障的磁阻R′qi的函数R′i1的计算式同式(5);然后再循环使用‘△‑Y’变换,即得到q轴磁路的总磁阻计算式,用式(6)等效计算q轴磁路总磁阻Rq:Rq=(Ri1+…Ri1+…)//(R′i1+…R′i1+…) (6)第四步:建立凸极比与SynRM相关结构参数的关系将第二步和第三步得到的d轴磁路的总磁阻Rq和q轴磁路的总磁阻Rq带入式(7)中,得到d、q轴等效磁路的凸极比Kd计算式,该计算式建立了凸极比Kd与第一步中确定的SynRM的结构参数绝缘屏障宽度t、绝缘屏障的轴向面积si、各层绝缘屏障的张开角度θi、定子内径与转子外径间的气隙长度δ之间的关系,即建立凸极比与SynRM相关结构参数的关系,![]()
第五步:调整结构参数的取值范围,提高SynRM的凸极比根据第四步建立的凸极比与SynRM相关结构参数的关系,以上述绝缘屏障宽度t、绝缘屏障的轴向面积si、各层绝缘屏障的张开角度θi、定子内径与转子外径间的气隙长度δ中任意一个结构参数为研究对象,找出该结构参数与对应的凸极比的关系,得到在凸极比在最大值附近时,对应的该结构参数的取值范围,实现对SynRM的相关结构参数的优化调整;将调整后的所有结构参数再带入凸极比与SynRM相关结构参数的关系中,最终提高SynRM的凸极比。
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