[发明专利]X射线探测器及其制造方法有效
申请号: | 201510728002.7 | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN106618617B | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 袁大洋;张宏业 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张东梅 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了一种X射线探测器及其制造方法,该X射线制造方法包括:形成X射线‑可见光转化层,该X射线‑可见光转化层下依次设有光‑电转化层以及信号处理层;在X射线‑可见光转化层上设置软性绝缘材料以形成保护层;以及,在保护层上形成能够弯曲的滤线栅层。 | ||
搜索关键词: | 射线 探测器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种X射线探测器的制造方法,包括:形成X射线‑可见光转化层,所述X射线‑可见光转化层下依次设有光‑电转化层以及信号处理层;在所述X射线‑可见光转化层上设置软性绝缘材料以形成保护层;以及,在所述保护层上形成能够弯曲的滤线栅层。
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