[发明专利]一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201510721659.0 | 申请日： | 2015-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN105403551A | 公开（公告）日： | 2016-03-16 |
| 发明（设计）人： | 何丹农;尹桂林;卢静 | 申请（专利权）人： | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65 |
| 代理公司： | 上海东方易知识产权事务所 31121 | 代理人： | 唐莉莎 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法，利用磁控溅射共溅射在光滑石英或单晶硅基底上制备100nm-150nm的银和二氧化硅纳米复合薄膜；在复合薄膜表面继续溅射一层30-50nm纳米银薄膜；将上述薄膜放入退火炉中，在保护性气氛下加热至900℃-940℃进行退火1-3小时，冷却至室温，即得到一种具有拉曼增强性能薄膜。本发明制备工艺简单，重复性好，且稳定性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 增强 性能 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：（1）利用磁控溅射共溅射在光滑石英或单晶硅基底上制备100nm‑150nm的银和二氧化硅纳米复合薄膜；（2）在复合薄膜表面继续溅射一层30‑50nm纳米银薄膜；（3）将上述薄膜放入退火炉中，在保护性气氛下加热至900℃‑940℃进行退火1‑3小时，冷却至室温，即得到一种具有拉曼增强性能薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司，未经上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510721659.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：黄酮苷类化合物及其制备方法和用途
- 下一篇：水性墙面防污清漆及其制备方法
