[发明专利]一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201510721659.0 | 申请日： | 2015-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN105403551A | 公开（公告）日： | 2016-03-16 |
| 发明（设计）人： | 何丹农;尹桂林;卢静 | 申请（专利权）人： | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65 |
| 代理公司： | 上海东方易知识产权事务所 31121 | 代理人： | 唐莉莎 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 增强 性能 薄膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：
（1）利用磁控溅射共溅射在光滑石英或单晶硅基底上制备100nm-150nm的银和二氧化硅纳米复合薄膜；
（2）在复合薄膜表面继续溅射一层30-50nm纳米银薄膜；
（3）将上述薄膜放入退火炉中，在保护性气氛下加热至900℃-940℃进行退火1-3小时，冷却至室温，即得到一种具有拉曼增强性能薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述磁控溅射共溅射为银靶和二氧化硅靶共溅射。
3.根据权利要求1所述的一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述的银和二氧化硅纳米复合薄膜，银质量百分比为30%-70%。
4.根据权利要求1所述的一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述的保护性气氛为氩气气氛。
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