[发明专利]一种硅外延设备的石墨盘旋转密封装置及自动上下料系统有效
申请号: | 201510720808.1 | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN105350073B | 公开(公告)日: | 2018-09-25 |
发明(设计)人: | 陈庆广;陈特超;胡凡;刘欣 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | C30B25/08 | 分类号: | C30B25/08;C30B25/12;C30B29/06 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅外延设备的石墨盘旋转密封装置及自动上下料系统,该石墨盘旋转密封装置包括反应室、石墨盘和石英轴,所述石英轴的顶端与石墨盘连接且带动石墨盘在反应室内旋转,所述石英轴的底端固定套设用于旋转密封的磁流体,所述磁流体的上方设有进气波纹管,所述石英轴与反应室的内壁之间形成进气通道,所述进气波纹管的进气口与进气通道连通。本发明的硅外延设备的石墨盘旋转密封装置,其磁流体固定套设于石英轴的底端,气体经进气波纹管填充于进气通道内,且向上流动,阻隔外延工艺气体向下流动后接触并腐蚀磁流体,提高旋转密封的性能,降低外延反应室的泄漏率,从而改善外延片的工艺均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 外延 设备 石墨 盘旋 密封 装置 自动 上下 系统 | ||
【主权项】:
1.一种硅外延设备的石墨盘旋转密封装置,包括反应室(1)、石墨盘(2)和石英轴(3),其特征在于:所述石英轴(3)的顶端与石墨盘(2)连接且带动石墨盘(2)在反应室(1)内旋转,所述石英轴(3)的底端固定套设用于旋转密封的磁流体(4),所述磁流体(4)的上方设有进气波纹管(5),所述反应室(1)设有向下凸出的进气部分,所述石英轴(3)与反应室(1)的进气部分的内壁之间形成进气通道(50),所述进气波纹管(5)的进气口与进气通道(50)连通。
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