[发明专利]一种硅外延设备的石墨盘旋转密封装置及自动上下料系统

权利要求书

1.一种硅外延设备的石墨盘旋转密封装置，包括反应室（1）、石墨盘（2）和石英轴（3），其特征在于：所述石英轴（3）的顶端与石墨盘（2）连接且带动石墨盘（2）在反应室（1）内旋转，所述石英轴（3）的底端固定套设用于旋转密封的磁流体（4），所述磁流体（4）的上方设有进气波纹管（5），所述反应室（1）设有向下凸出的进气部分，所述石英轴（3）与反应室（1）的进气部分的内壁之间形成进气通道（50），所述进气波纹管（5）的进气口与进气通道（50）连通。

2.根据权利要求1所述的硅外延设备的石墨盘旋转密封装置，其特征在于：所述磁流体（4）与反应室（1）的交接处套设有密封组件（6），所述密封组件（6）与磁流体（4）、反应室（1）均密封连接，所述进气波纹管（5）设于密封组件（6）上且靠近磁流体（4）。

3.根据权利要求2所述的硅外延设备的石墨盘旋转密封装置，其特征在于：所述进气波纹管（5）的进气口通入的气体为氢气。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的硅外延设备的石墨盘旋转密封装置，其特征在于：所述石英轴（3）竖直设置，所述石英轴（3）的一端与石墨盘（2）固定连接，另一端设有维持石墨盘（2）水平转动的平衡调节组件（7）。

5.根据权利要求4所述的硅外延设备的石墨盘旋转密封装置，其特征在于：所述平衡调节组件（7）包括定位块（71）和设于定位块（71）下方的固定块（72），所述定位块（71）固设于石英轴（3）的底部端面内，所述石英轴（3）、定位块（71）以及固定块（72）均同轴布置，且定位块（71）与固定块（72）之间通过一螺钉同轴连接，所述固定块（72）与磁流体（4）固定连接。

6.根据权利要求5所述的硅外延设备的石墨盘旋转密封装置，其特征在于：所述固定块（72）的外周设有安装法兰，所述安装法兰上设有安装孔，所述固定块（72）通过安装法兰的安装孔及螺栓固定连接于磁流体（4）上。

7.根据权利要求5或6所述的硅外延设备的石墨盘旋转密封装置，其特征在于：所述石墨盘旋转密封装置还包括用于驱动石墨盘（2）旋转的驱动件（8），以及连接驱动件（8）与固定块（72）的联轴机构（9）。

8.一种自动上下料系统，其特征在于：包括信号检测装置（10），以及权利要求1至7中任意一项所述的硅外延设备的石墨盘旋转密封装置，所述信号检测装置（10）设于石墨盘（2）的上方，所述石墨盘（2）通过信号检测装置（10）控制启动或停止转动。