[发明专利]薄晶片电流传感器有效

专利信息
申请号: 201510720530.8 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN105242097B 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: U.奥塞莱希纳;M.莫茨 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: G01R19/00 分类号: G01R19/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 申屠伟进;陈岚
地址: 德国瑙伊比*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及薄晶片电流传感器。实施例涉及使用薄晶片制造工艺制造的IC电流传感器。这样的技术可以包括其中利用研磨前划片(DBG)的处理,这可以改进可靠性并且使应力效应最小化。尽管实施例利用面朝上安装,但是在其他实施例中通过过孔接触而使面朝下安装是可能的。IC电流传感器实施例可以在使常常与传统的IC电流传感器相关联的缺陷最小化的同时呈现许多优点。
搜索关键词: 晶片 电流传感器
【主权项】:
一种方法,包括:从第一面划片小于硅晶片的整个厚度;将叠层带施加到所述硅晶片的所述第一面;对所述硅晶片的第二面进行背研磨;将划片带施加到所述硅晶片的所述第二面;移除所述叠层带;对所述硅晶片进行过刻蚀;对半导体晶片的半导体芯片进行分割;以及利用至少一个分割的半导体芯片来形成磁场电流传感器。
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