[发明专利]一种二维斯格明晶体的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510688564.3 申请日: 2015-10-21
公开(公告)号: CN105161289A 公开(公告)日: 2015-12-16
发明(设计)人: 孙亮;缪冰锋;丁海峰 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01F41/18 分类号: H01F41/18;H01F41/30
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 陈建和
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种二维斯格明晶体的制备方法,将纳米磁性圆盘直接放到垂直各项异性材料上面,利用磁性材料之间的退磁能、交换能、各向异性能的相互作用的竞争获得斯格明晶体结构。尤其是钴的纳米磁性圆盘阵列放置到钴铂合金平面上,通过施加平行于薄膜表面且互相垂直的组合磁场的方法,使得纳米磁性圆盘阵列的每个磁性圆盘磁化的旋转方向统一。
搜索关键词: 一种 二维 斯格明 晶体 制备 方法
【主权项】:
一种二维斯格明晶体的制备方法,其特征是将纳米磁性圆盘直接放到垂直各项异性材料上面,利用磁性材料之间的退磁能、交换能、各向异性能的相互作用的竞争获得斯格明晶体结构。
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