[发明专利]一种边缘曝光装置及曝光方法在审
| 申请号： | 201510617758.4 | 申请日： | 2015-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN105137722A | 公开（公告）日： | 2015-12-09 |
| 发明（设计）人： | 范真瑞;熊黎;张文轩;陆忠;李承敃;廖鹏宇;林伟;蒋冬华;李炳天;张宇;高胜洲 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种边缘曝光装置及曝光方法，涉及光刻技术领域，用于缩短边缘曝光装置对位于非显示区域的所有光阻层进行曝光的时间，提高制作显示基板的产能。该边缘曝光装置包括基板载台和位于所述基板载台上方的光源，所述光源包括至少两个相互平行的第一条形光源，每个所述第一条形光源的形状均与放置于所述基板载台上的基板的非显示区域的光阻层中、沿所述基板的长度方向延伸的条形区域的形状相匹配。本发明用于曝光基板上非显示区域的光阻层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 边缘 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种边缘曝光装置，其特征在于，包括基板载台和位于所述基板载台上方的光源，所述光源包括至少两个相互平行的第一条形光源，每个所述第一条形光源的形状均与放置于所述基板载台上的基板的非显示区域的光阻层中、沿所述基板的长度方向延伸的条形区域的形状相匹配。
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