[发明专利]一种边缘曝光装置及曝光方法在审

专利信息
申请号: 201510617758.4 申请日: 2015-09-24
公开(公告)号: CN105137722A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 范真瑞;熊黎;张文轩;陆忠;李承敃;廖鹏宇;林伟;蒋冬华;李炳天;张宇;高胜洲 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 边缘 曝光 装置 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及光刻技术领域,尤其涉及一种边缘曝光装置及曝光方法。

背景技术

目前,在显示基板的制作过程中,包括对显示基板上的光阻层进行曝光的工艺。具体地,使用主曝光装置对基板上的显示区域的光阻层进行曝光,使用边缘曝光装置对基板上的非显示区域的光阻层进行曝光。其中,上述非显示区域的光阻层由多个条形区域组成,例如,当在一块基板上制作四块显示区域时,非显示区域的光阻层由呈田字型排布的六个条形区域组成。

现有技术中,边缘曝光装置通常包括多个点光源和基板载台,每个点光源照射在对应的条形区域上均产生一个正方形光斑。然而,本申请的发明人发现,在使用上述边缘曝光装置对对应的光阻层进行曝光的过程中,由于每个正方形光斑一次性只能覆盖对应的条形区域的一小部分,即每个点光源一次性只能对对应的条形区域的一小部分进行曝光,因此,需要通过机械的方式移动每个点光源或者基板载台,以使每个点光源完成对对应的条形区域的所有部分的曝光。而每个点光源或者基板载台的移动需要一定的时间,从而使得边缘曝光装置对位于非显示区域的所有光阻层进行曝光的时间较长,影响了制作显示基板的产能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种边缘曝光装置及曝光方法,用于缩短边缘曝光装置对位于非显示区域的所有光阻层进行曝光的时间,提高制作显示基板的产能。

为达到上述目的,本发明提供的边缘曝光装置采用如下技术方案:

一种边缘曝光装置,该边缘曝光装置包括基板载台和位于所述基板载台上方的光源,所述光源包括至少两个相互平行的第一条形光源,每个所述第一条形光源的形状均与放置于所述基板载台上的基板的非显示区域的光阻层中、沿所述基板的长度方向延伸的条形区域的形状相匹配。

在本发明所提供的边缘曝光装置中,由于该边缘曝光装置中的光源包括至少两个相互平行的第一条形光源,且每个第一条形光源的形状均与对应的光阻层中沿基板的长度方向延伸的条形区域的形状相匹配,从而使得在使用该边缘曝光装置对对应的光阻层进行曝光的过程中,每个第一条形光源照射在对应的条形区域上所产生的光斑均能一次性覆盖该条形区域的所有部分,即每个第一条形光源均能一次性对对应的条形区域的所有部分进行曝光,因此,与现有技术相比,节约了现有技术中的点光源或者基板载台移动以使其产生的正方形光斑覆盖对应的条形区域的所有部分的时间,进而能够缩短边缘曝光装置对位于非显示区域的所有光阻层进行曝光的时间,提高了制作显示基板的产能。

本发明进一步提供了一种曝光方法,该曝光方法包括:

将基板放置在基板载台上;

使用位于所述基板载台上方的光源对所述基板的非显示区域的光阻层进行曝光;

其中,所述光源包括至少两个相互平行的第一条形光源,每个所述第一条形光源的形状均与放置于所述基板载台上的基板的非显示区域的光阻层中、沿所述基板的长度方向延伸的条形区域的形状相匹配。

在本发明所提供的曝光方法中,由于该曝光方法包括将基板放置在基板载台上,然后使用位于基板载台上方的光源对基板的非显示区域的光阻层进行曝光,其中,上述光源包括至少两个相互平行的第一条形光源,且每个第一条形光源的形状均与放置于基板载台上的基板的非显示区域的光阻层中、沿基板的长度方向延伸的条形区域的形状相匹配,因此,在使用该曝光方法对对应的光阻层进行曝光的过程中,每个第一条形光源照射在对应的条形区域上所产生的光斑均能一次性覆盖该条形区域的所有部分,即每个第一条形光源均能一次性对对应的条形区域的所有部分进行曝光,因此,与现有技术相比,节约了现有技术中的点光源或者基板载台移动以使其产生的正方形光斑覆盖对应的条形区域的所有部分的时间,进而能够缩短使用该曝光方法对位于非显示区域的所有光阻层进行曝光的时间,提高了制作显示基板的产能。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中的第一种边缘曝光装置的结构示意图;

图2为本发明实施例中的第一种基板的结构示意图;

图3为本发明实施例中的第二种基板的结构示意图;

图4为本发明实施例中的第三种基板的结构示意图;

图5为本发明实施例中的第二种边缘曝光装置的结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510617758.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top