[发明专利]一种曝光方法在审
申请号: | 201510613854.1 | 申请日: | 2015-09-23 |
公开(公告)号: | CN105223783A | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 何恒忠 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种曝光方法,包括如下步骤:在移动载台上装载基板,所述基板上设有待曝光区域;在掩膜板载台上装载掩膜板,所述掩膜板载台位于所述移动载台上方,所述掩膜板上具有多个不同的图案区;移动所述移动载台,使得所述基板上的待曝光区域与所述掩膜板上的所述图案区逐一对齐,每次对齐其中一个所述图案区后,均将曝光光源对准与所述待曝光区域对齐的所述图案区,进行曝光。本发明中,通过将原本设置在多个掩膜板上的图案区,合并在同一个掩膜板上,在基板曝光过程中通过移动基板,逐一与多个图案区对齐,进行曝光。在一个掩膜板上就可以完成多道曝光工序,从而节省了掩膜板的数量,进而降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 曝光 方法 | ||
【主权项】:
一种曝光方法,其特征在于,包括如下步骤:在移动载台上装载基板,所述基板上设有待曝光区域;在掩膜板载台上装载掩膜板,所述掩膜板载台位于所述移动载台上方,所述掩膜板上具有多个图案区;移动所述移动载台,使得所述基板上的待曝光区域与所述掩膜板上的所述图案区逐一对齐,每次对齐其中一个所述图案区后,均将曝光光源对准与所述待曝光区域对齐的所述图案区,进行曝光。
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