[发明专利]一种曝光方法在审

专利信息
申请号: 201510613854.1 申请日: 2015-09-23
公开(公告)号: CN105223783A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 何恒忠 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 方法
【权利要求书】:

1.一种曝光方法,其特征在于,包括如下步骤:

在移动载台上装载基板,所述基板上设有待曝光区域;

在掩膜板载台上装载掩膜板,所述掩膜板载台位于所述移动载台上方,所述掩膜板上具有多个图案区;

移动所述移动载台,使得所述基板上的待曝光区域与所述掩膜板上的所述图案区逐一对齐,每次对齐其中一个所述图案区后,均将曝光光源对准与所述待曝光区域对齐的所述图案区,进行曝光。

2.如权利要求1所述的曝光方法,其特征在于,所述多个图案区的图案各不相同。

3.如权利要求2所述的曝光方法,其特征在于,所述图案区的数量为6个。

4.如权利要求3所述的曝光方法,其特征在于,所述6个图案区的面积相同。

5.如权利要求4所述的曝光方法,其特征在于,所述6个图案区呈阵列排布。

6.一种曝光方法,其特征在于,包括如下步骤:

在移动载台上装载基板,所述基板上设有多个待曝光区域;

在掩膜板载台上装载掩膜板,所述掩膜板载台位于所述移动载台上方,所述掩膜板上具有多个图案区;

移动所述移动载台,使得所述掩膜板上的其中一个所述图案区与基板上的所述多个待曝光区域逐一对齐并进行曝光;

通过重复移动所述移动载台,使得所述掩膜板上的其它的所述图案区与基板上的多个待曝光区域逐一对齐并进行曝光,直至完成所有的所述图案区域在所述多个待曝光区域的曝光。

7.如权利要求6所述的曝光方法,其特征在于,所述基板上包括6个所述待曝光区域。

8.如权利要求6所述的曝光方法,其特征在于,所述多个图案区的图案各不相同。

9.如权利要求8所述的曝光方法,其特征在于,所述图案区的数量为6个。

10.如权利要求9所述的曝光方法,其特征在于,所述6个图案区的面积相同。

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