[发明专利]防静电聚酰亚胺屏蔽黑膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种防静电聚酰亚胺屏蔽黑膜的制备方法，包括采用添加剂和聚酰胺酸，其中添加剂占聚酰胺酸中的重量比为0.5%~5%；所述添加剂由纳米镍粉、碳黑和偶联剂组成，其中纳米镍粉占添加剂总量的1%~8%；碳黑占添加剂总量的90%~98%；偶联剂占添加剂总量的1%~2%；所述聚酰胺酸由二胺和二酐在溶剂中缩聚而得；合成时，首先将纳米镍粉、碳黑和偶联剂这三种添加剂溶解在溶剂中，然后二胺和二酐按等摩尔比计算各自所需的反应量，合成得到聚酰胺酸，然后脱泡流延成膜即可，所得产品不仅具有防静电的效果，其体积电阻率在104Ω•cm~109Ω•cm，同时具有良好的电磁屏蔽效果，可将其应用于高端柔性线路板等电子领域。

主权项

一种防静电聚酰亚胺屏蔽黑膜的制备方法，其特征在于：包括采用添加剂和聚酰胺酸，其中添加剂占聚酰胺酸中的重量比为0.5%~5%；所述添加剂由纳米镍粉、碳黑和偶联剂组成，其中纳米镍粉占添加剂总量的1%~8%；碳黑占添加剂总量的90%~98%；偶联剂占添加剂总量的1%~2%；所述聚酰胺酸由二胺和二酐在溶剂中缩聚而得，其中所述二胺为4,4‑二氨基二苯醚、对苯二胺、4,4‑二氨基二苯基甲烷中的一种或几种，二酐为均苯四甲酸二酐、联苯四甲酸二酐、酮酐、二苯醚四甲酸二酐中的一种或几种，溶剂是二甲基乙酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺中的一种或几种；合成时，首先将纳米镍粉、碳黑和偶联剂这三种添加剂溶解在溶剂中，然后将二胺和二酐按等摩尔比计算各自所需的反应量，合成得到聚酰胺酸，其合成过程中，先将计算所需的二胺放入反应釜中，并用溶剂溶解，然后再加入计算所需二酐的99%到反应釜中；最后加入合成反应时尚未加入的余下1%的二酐，以控制最后反应生成物的粘度达到90000±5000CP，然后脱泡流延成膜即可。