[发明专利]荧光纳米标准板的制备方法有效
| 申请号： | 201510551458.0 | 申请日： | 2015-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN105203508B | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 蒋克明;黎海文;周武平;张涛;刘聪 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 史霞 |
| 地址： | 215163 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本案涉及荧光纳米标准板的制备方法，包括：1)采用电子束蒸发法或磁控溅射法在基底层表面形成金属层；2)在金属层表面旋涂光刻胶层；利用电子束光刻法对光刻胶层等间距曝光，显影后形成等间距的光刻胶线条；3)将光刻胶线条浸泡于硅烷化试剂中进行表面硅烷化处理，形成硅烷层；4)将硅烷层浸泡于荧光染料溶液中反应30min以在硅烷层的表面修饰荧光染料层；5)在荧光染料层表面旋涂透明保护层。本制备方法步骤少，工艺简单，反应条件温和无污染，工艺重现性好；通过精确调整荧光纳米标准板的结构尺寸，实现荧光线条结构的整齐排列，直观地反应出系统的分辨能力；同时，这种结构的标准板能够实现批量制作，稳定性高，分辨率高。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 纳米 标准 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种荧光纳米标准板的制备方法，包括：步骤1)采用电子束蒸发法或磁控溅射法在基底层表面形成一层金属层；步骤2)在所述金属层表面旋涂光刻胶层；利用电子束光刻法对光刻胶层等间距曝光，显影后形成等间距的光刻胶线条；步骤3)将所述光刻胶线条浸泡于硅烷化试剂中进行表面硅烷化处理，在光刻胶线条表面形成硅烷层；步骤4)将所述硅烷层浸泡于荧光染料溶液中反应30min以在所述硅烷层的表面修饰荧光染料层；用乙醇冲洗后，氮气吹干；步骤5)在所述荧光染料层表面旋涂用于保护荧光染料的透明保护层。
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