[发明专利]荧光纳米标准板的制备方法

权利要求书

1.一种荧光纳米标准板的制备方法，包括：

步骤1)采用电子束蒸发法或磁控溅射法在基底层表面形成一层金属层；

步骤2)在所述金属层表面旋涂光刻胶层；利用电子束光刻法对光刻胶层等间距曝光，显影后形成等间距的光刻胶线条；

步骤3)将所述光刻胶线条浸泡于硅烷化试剂中进行表面硅烷化处理，在光刻胶线条表面形成硅烷层；

步骤4)将所述硅烷层浸泡于荧光染料溶液中反应30min以在所述硅烷层的表面修饰荧光染料层；用乙醇冲洗后，氮气吹干；

步骤5)在所述荧光染料层表面旋涂用于保护荧光染料的透明保护层。

2.根据权利要求1所述的荧光纳米标准板的制备方法，其特征在于，所述基底层为硅或氮化硅。

3.根据权利要求1所述的荧光纳米标准板的制备方法，其特征在于，所述金属层选自铬、钛、铝、金或其组合。

4.根据权利要求1所述的荧光纳米标准板的制备方法，其特征在于，所述硅烷化试剂为3-氨丙基三甲氧基硅烷或3-氨丙基三乙氧基硅烷。

5.根据权利要求1所述的荧光纳米标准板的制备方法，其特征在于，所述金属层的厚度为5～50nm。

6.根据权利要求1所述的荧光纳米标准板的制备方法，其特征在于，所述光刻胶层的厚度为50～130nm。

7.根据权利要求1所述的荧光纳米标准板的制备方法，其特征在于，所述透明保护层的厚度为30～100nm。

8.根据权利要求1所述的荧光纳米标准板的制备方法，其特征在于，所述荧光染料为异硫氰酸荧光素或荧光蛋白ATTO 488。