[发明专利]一种CO2优先渗透的有机‑无机杂化SiO2膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510547585.3 申请日: 2015-08-31
公开(公告)号: CN105148753B 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: 孔春龙;杨旭阳;陈亮 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: B01D71/70 分类号: B01D71/70;B01D67/00;B01D53/00
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 代理人: 单英
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种CO2优先渗透的有机‑无机杂化SiO2膜,由上下两层膜构成,下层膜是有机硅材料和酸性催化剂按照摩尔比0.051~0.151混合后在室温条件下反应生成的前驱体溶胶经涂覆、烧结干燥而制得,上层膜是有机硅材料和酸性催化剂按照摩尔比51~151混合后在室温条件下反应生成的前驱体溶胶经涂覆、烧结干燥而制得。与现有技术相比,该有机‑无机杂化SiO2膜不仅具有良好的水热稳定性和耐腐蚀性,而且对CO2具有优良的渗透通量和分离选择性,在CO2捕获、天然气净化等工业领域具有较好的应用前景。
搜索关键词: 一种 co sub 优先 渗透 有机 无机 sio 及其 制备 方法
【主权项】:
一种CO2优先渗透的有机‑无机杂化SiO2膜,其特征在于:由上下两层膜构成;下层膜是有机硅材料和酸性催化剂按照摩尔比0.05:1~0.15:1混合后在室温条件下反应生成的前驱体溶胶经涂覆、烧结干燥而制得;上层膜是有机硅材料和酸性催化剂按照摩尔比5:1~15:1混合后在室温条件下反应生成的前驱体溶胶经涂覆、烧结干燥而制得;所述有机‑无机杂化SiO2膜的CO2/CH4的分离系数大于15。
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