[发明专利]用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置有效
| 申请号： | 201510524178.0 | 申请日： | 2010-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN105137718B | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | V.库利特斯基;B.盖尔里奇;S.泽尔特;关彦彬;P.德费尔;A.沃姆布兰德 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置，包括：多个光学元件(101、102)；以及承载结构(100、300)，其承载所述光学元件(101、102)，其中所述承载结构由至少两个可释放地互相连接的模块(110‑140、310‑340、510、610)构成；以及其中每个模块(110‑140、310‑340、510、610)由至少一个承载结构子元件(121‑124、421、511‑514、612‑614)构成，其中通过多个承载结构子元件(121‑124、421、511‑514、612‑614)和/或模块(110‑140、310‑340、510、610)产生子壳体；以及其中所述子壳体具有几何形状，所述几何形状至少在一些区域中对应于所述投射曝光设备中的可用光束路径而不同，所述可用光束路径被定义为能够从场平面中的所有场点向所述投射曝光设备的像平面传播的所有光束的包络。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 euv 光刻 投射 曝光 设备 中的 光学 布置 | ||
【主权项】：
1.一种用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置，包括：多个光学元件(101、102)；以及承载结构(100、300)，其承载所述光学元件(101、102)以及其由至少两个可释放地互相连接的模块(110‑140、310‑340、510、610)构成；其中每个模块(110‑140、310‑340、510、610)由至少一个承载结构子元件(121‑124、421、511‑514、612‑614)构成，其中由多个承载结构子元件(121‑124、421、511‑514、612‑614)和/或模块(110‑140、310、340、510、610)产生子壳体；其中所述子壳体具有几何形状，所述几何形状至少在一些区域中对应于所述投射曝光设备中的可用光束路径而不同，所述可用光束路径被定义为能够从场平面中的所有场点向所述投射曝光设备的像平面传播的所有光束的包络；以及其中至少一个所述模块(110‑140、310‑340、510、610)由至少两个承载结构子元件(121‑124、421、511‑514、612‑614)构成；其中所述至少两个承载结构子元件的每个具有至少一个开口，以在所述投射曝光设备的运行中允许光束通过；以及其中至少一个所述承载结构子元件(121‑124、421、511‑514、612‑614)具有至少两个开口(121a‑121c，421a‑421c)，以在所述投射曝光设备的运行中允许光束通过，其中通过至少一个密封元件将至少两个承载结构子元件(612、613、614)相对于彼此流体密封地密封。
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