[发明专利]用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置

权利要求书

1.一种用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置，包括：

多个光学元件(101、102)；以及

承载结构(100、300)，其承载所述光学元件(101、102)以及其由至少两个可释放地互相连接的模块(110-140、310-340、510、610)构成；

其中每个模块(110-140、310-340、510、610)由至少一个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)构成，

其中由多个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)和/或模块(110-140、310、340、510、610)产生子壳体；

其中所述子壳体具有几何形状，所述几何形状至少在一些区域中对应于所述投射曝光设备中的可用光束路径而不同，所述可用光束路径被定义为能够从场平面中的所有场点向所述投射曝光设备的像平面传播的所有光束的包络；以及

其中至少一个所述模块(110-140、310-340、510、610)由至少两个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)构成；

其中所述至少两个承载结构子元件的每个具有至少一个开口，以在所述投射曝光设备的运行中允许光束通过；以及

其中至少一个所述承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)具有至少两个开口(121a-121c，421a-421c)，以在所述投射曝光设备的运行中允许光束通过，

其中通过至少一个密封元件将至少两个承载结构子元件(612、613、614)相对于彼此流体密封地密封。

2.根据权利要求1所述的光学布置，其特征在于：至少两个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)具有不同数目的开口(121a-121c，421a-421c)，以在所述投射曝光设备的运行中允许光束通过。

3.根据权利要求1所述的光学布置，其特征在于：所述可用光束路径由所述子壳体围绕，使得在所述可用光束路径和所述子壳体之间存在不超过10mm的最大间隔。

4.根据权利要求3所述的光学布置，其特征在于：所述可用光束路径和所述子壳体之间存在不超过5mm的最大间隔。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于：至少一个所述模块(110-140、310-340、510、610)由至少三个承载结构子元件构成。

6.根据权利要求5所述的光学布置，其特征在于：至少一个所述模块(110-140、310-340、510、610)由至少四个承载结构子元件构成。

7.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于：至少两个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)在它们的开口(121a-121c，421a-421c)的尺寸、横截面几何形状和/或定位方面不同。

8.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于：所述开口(121a-121c，421a-421c)的布置适配于在运行中穿过所述投射曝光设备的光束的构造。

9.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于：所述可用光束路径包括至少部分地渗入彼此的光束。

10.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于：所述可用光束路径是折叠的光束路径。

11.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于：在运行中穿过所述投射曝光设备的光束在至少一个所述承载结构子元件中连续横穿不同的开口。

12.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于：所述光学元件是反射镜。