[发明专利]光谱仪、单光仪、绕射光栅及其制造方法与母模制造方法有效

专利信息
申请号: 201510521841.1 申请日: 2015-08-24
公开(公告)号: CN106482832B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 洪健翔;叶展良 申请(专利权)人: 台湾超微光学股份有限公司
主分类号: G01J3/18 分类号: G01J3/18;G02B5/18
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 许志勇;李有财
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种绕射光栅,其包括一基板以及多个绕射结构。这些绕射结构彼此相连,并形成在基板上,各个绕射结构的形状为柱状,这些绕射结构沿着一内凹柱面排列,其中这些绕射结构的轴线沿着内凹柱面的母线延伸,其中沿着垂直于各条轴线的方向对这些绕射结构剖面而得到一剖面轮廓。剖面轮廓中所示的各个相连的绕射结构的一顶点的联机为一参考曲线,其具有多个第一反曲点。这些绕射结构用以将一光学讯号分离为多个光谱分量,其中绕射光栅聚焦这些光谱分量于一聚焦面。
搜索关键词: 光谱仪 单光仪 光栅 及其 制造 方法
【主权项】:
一种绕射光栅的制造方法,其特征在于,所述绕射光栅的制造方法包括以下步骤:提供一基板,所述基板具有一内凹柱面;以及在所述内凹柱面上形成多个彼此相连的绕射结构,所述各绕射结构的形状为柱状,而所述各绕射结构的一轴线沿着所述内凹柱面的一母线延伸,其中沿着垂直于所述各轴线的方向对所述这些绕射结构剖面而得到一剖面轮廓,所述剖面轮廓中所示的所述各相连的绕射结构的一顶点的联机为一参考曲线,所述参考曲线具有多个第一反曲点。
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