[发明专利]基板曝光平台及曝光机有效
| 申请号： | 201510507584.6 | 申请日： | 2015-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN105182692B | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | 丁磊 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板曝光平台及具有该基板曝光平台的曝光机，本发明基板曝光平台的支撑针的表面上涂覆有具有散射作用的散射涂层，使支撑针侧面上的反射光变更为扩散光，降低光线的正反射量，从而改善曝光过程中，基板上容易形成pin mura的问题；本发明的另一种基板曝光平台，支撑针的侧面垂直于平台本体的表面，支撑针与平台本体不具有倾斜面，从而改善曝光过程中因支撑针倾斜面的反射作用而导致基板上容易形成pin mura的问题；本发明的曝光机，设有上述基板曝光平台，能够避免曝光制程中因支撑针导致的基板上形成pin mura的问题，具有高的曝光精度及解析度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 平台 | ||
【主权项】：
一种基板曝光平台，其特征在于，包括平台本体、及突出于所述平台本体上的多个支撑针；所述支撑针用于在曝光过程中支撑涂有光刻胶的基板，所述支撑针侧面涂覆有散射涂层，从而使支撑针的表面粗糙化，曝光过程中，通过散射涂层的作用，将射在支撑针表面的光进行散射，使得基板上的光刻胶接收的光线较为均匀。
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