[发明专利]基板曝光平台及曝光机有效
| 申请号： | 201510507584.6 | 申请日： | 2015-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN105182692B | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | 丁磊 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 平台 | ||
1.一种基板曝光平台，其特征在于，包括平台本体、及突出于所述平台本体上的多个支撑针；
所述支撑针用于在曝光过程中支撑涂有光刻胶的基板，所述支撑针侧面涂覆有散射涂层，从而使支撑针的表面粗糙化，曝光过程中，通过散射涂层的作用，将射在支撑针表面的光进行散射，使得基板上的光刻胶接收的光线较为均匀。
2.如权利要求1所述的基板曝光平台，其特征在于，所述散射涂层的材料为陶瓷。
3.如权利要求1所述的基板曝光平台，其特征在于，所述平台本体与支撑针的材料相同，均为金属；所述平台本体与支撑针采用焊接或一体成型制成。
4.如权利要求1所述的基板曝光平台，其特征在于，所述支撑针呈圆台状，所述支撑针的侧面相对于所述平台本体的表面倾斜。
5.如权利要求1所述的基板曝光平台，其特征在于，所述支撑针呈圆柱状，所述支撑针的侧面相对于所述平台本体的表面垂直。
6.一种基板曝光平台，其特征在于，包括平台本体、及突出于所述平台本体上的多个支撑针；
所述支撑针用于在曝光过程中支撑涂有光刻胶的基板，所述支撑针的侧面相对于所述平台本体的表面垂直；
所述支撑针侧面涂覆有散射涂层，从而使支撑针的表面粗糙化，曝光过程中，通过散射涂层的作用，将射在支撑针表面的光进行散射，使得基板上的光刻胶接收的光线较为均匀。
7.如权利要求6所述的基板曝光平台，其特征在于，所述支撑针呈圆柱状。
8.如权利要求6所述的基板曝光平台，其特征在于，所述平台本体与支撑针的材料相同，均为金属；所述平台本体与支撑针采用焊接或一体成型制成。
9.如权利要求6所述的基板曝光平台，其特征在于，所述散射涂层的材料为陶瓷。
10.一种曝光机，其特征在于，包括如权利要求1或6所述的基板曝光平台。
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