[发明专利]一种重复单元结构TEM样品的定位方法有效
| 申请号： | 201510460194.8 | 申请日： | 2015-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN105158514B | 公开（公告）日： | 2018-02-27 |
| 发明（设计）人： | 陈强;孙蓓瑶 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01Q30/20 | 分类号： | G01Q30/20 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人： | 吴世华,陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出一种重复单元结构TEM样品的定位方法，所述TEM样品由FIB制备完成，所述重复单元结构内部或相邻结构之间没有填充物，其特征在于先对包含观测目标的重复单元结构区域分别叠加淀积不同致密度的第一和第二保护层，实施填充，再根据切割时重复单元结构内部或相邻结构之间填充物的疏密状况定位到观测目标。本发明还提出一种利用上述定位方法实施重复单元结构的定点TEM的制样方法。本发明及相应的制样方法在现有技术上提高了TEM制样效率，改善了重复单元结构TEM样品的定位精准程度，进一步提高了制样的成功率和准确性，降低了制样的难度和成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 重复 单元 结构 tem 样品 定位 方法 | ||
【主权项】：
一种重复单元结构TEM样品的定位方法，所述TEM样品由聚焦离子束显微镜制备完成，所述重复单元结构内部或相邻结构之间没有填充物，其特征在于先对包含观测目标的重复单元结构区域分别叠加淀积不同致密度的第一和第二保护层，实施填充，再根据切割时重复单元结构内部或相邻结构之间填充物的疏密状况定位到观测目标。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510460194.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种梭梭木质部扫描电镜样品制备方法
- 下一篇：声学多普勒剖面流速仪的检测方法
