[发明专利]一种阵列基板及其制作方法有效
| 申请号： | 201510406092.8 | 申请日： | 2015-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN105093735B | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 叶成亮 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1335;G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板及其制作方法，所述方法包括在衬底基板上形成黑色矩阵层，所述黑色矩阵层包括多个黑色矩阵；在所述黑色矩阵层上制作开关阵列层，所述开关阵列层包括多个薄膜晶体管；在所述开关阵列层上形成色阻层，所述色阻层包括多个彩膜色阻；以及在所述色阻层上形成透明导电层。本发明的阵列基板及其制作方法，通过在制作色阻层之前先制作黑色矩阵，从而简化制程过程、节省生产成本，提高了显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成黑色矩阵层，所述黑色矩阵层包括多个黑色矩阵；在所述黑色矩阵层上制作开关阵列层，所述开关阵列层包括多个薄膜晶体管；在所述开关阵列层上形成色阻层，所述色阻层包括多个彩膜色阻；以及在所述色阻层上形成透明导电层；其中所述彩膜色阻内具有一透光区域，所述黑色矩阵与相应的所述彩膜色阻的透光区域的间距最小边之间的间距至少为2微米，所述间距最小边为距离所述黑色矩阵最小的边。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司，未经深圳市华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510406092.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
