[发明专利]一种有源层及其制备方法、有机场效应晶体管和阵列基板

摘要

本发明公开了一种有源层及其制备方法，有机场效应晶体管和阵列基板。根据本发明有源层的制备方法，该有源层为并五苯层；其中，并五苯层由式I所示化合物制备而成。本发明的有源层根据本发明的制备方法制成；本发明的有机场效应晶体管包括本发明的有源层；本发明的阵列基板包括根据本发明的有机场效应晶体管。根据本发明有源层的制备方法，采用式I所示化合物作为前驱体，有利于采用光刻法制备有源层，进而避免了现有技术中湿法工艺造成的咖啡环，提高了有机场效应晶体管的光学效果，且克服了并五苯层的流动性，提高了并五苯层的精度。

主权项

一种有源层的制备方法，其特征在于，该有源层为并五苯层；其中，所述并五苯层由式I所示化合物制备而成该方法包括：涂覆步骤：将式I所示化合物的溶液涂覆成层状后烘干；光刻步骤：在式I所示化合物层上涂覆光刻胶、掩膜并曝光，其中，曝光区域的式I所示化合物转化为式II所示聚合物；显影步骤：剥离光刻胶后用有机溶剂显影，清洗掉未曝光区域式I所示化合物；并五苯生成步骤：对曝光区域的式II所示聚合物加热转化为并五苯；在所述涂覆步骤中，所述式I所示化合物的溶液的溶剂为混合溶剂，其中，所述混合溶剂包括以重量份计的：10～14份乙二醇单丁醚、70～74份γ‑丁内酯和14～18份N‑甲基吡咯烷酮。