[发明专利]一种低温下N掺杂铋系氧化物的制备方法

摘要

本发明涉及一种室温下制备N掺杂碳酸氧铋的方法，其特征在于：合成温度为室温15～40℃，合成条件为常压；以含铋无机盐为铋源，含氮表面活性剂为氮源，铋源和氮源的原料具有可替换性；采用化学共沉淀法将溶液混合，从而制备氮掺杂铋系氧化物。本发明方法制备设备条件简易、操作简便，可实现大规模生产，所制备材料光催化性能优良。

主权项

一种室温下氮掺杂铋系氧化物的制备方法，其特征是包括下列步骤：a)反应液体的配置：室温下，将0.005～2mol的铋盐，如硝酸铋(Bi(NO₃)₃)溶解于0.005～2L的1mol/L稀硝酸(HNO₃)溶液中并搅拌至澄清，形成溶液A。将0.1～120g含氮表面活性剂，如十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)和0.05～10mol碳酸盐，或和0.05～10mol卤化物，或和4～10mol磷酸盐，或和0.05～10mol钨酸盐，如碳酸钠(Na₂CO₃)，或氯化钠(NaCl)，或磷酸氢二钠(Na₂HPO₄)，或钨酸钠(Na₂WO₄)溶入0.02～12L去离子水中，并搅拌至澄清，形成溶液B。b)沉淀法合成：在15～40℃下，将B溶液逐滴滴入到A溶液中，整个滴入过程中A溶液一直处于搅拌状态。搅拌10～60分钟过后，对反应液进行抽滤，并用小分子醇和去离子水各清洗三次，最后置于40‑80℃条件下进行干燥，干燥时间6～20小时，即可制得氮掺杂铋系氧化物。