[发明专利]一种集成电路芯片清洗剂及其制备方法

摘要

一种集成电路芯片清洗剂及其制备方法，该清洗剂包括以下原料：柠檬酸，甘油，乙醇，聚氧乙烯醚，双氧水，氢氧化铵，丁烷，烷基醇酰胺。制备方法：按重量份数称取原料，并将柠檬酸、乙醇、丙三醇和双氧水投入密闭容器中，在惰性气体保护下以2-5℃/min恒速升温到42-55℃得第一混合物；将聚氧乙烯醚、氢氧化铵和丁烷和烷基醇酰胺投入反应釜中，在真空度为0.06-0.12Mpa的真空条件下加热至62-68℃后，以5-8℃/min升温至75-80℃得第二混合物；将第一混合物和第二混合物混合后，搅拌得集成电路清洗剂。本发明集成电路芯片清洗剂清洁能力强，对芯片损伤少，制备简单，适合推广。

主权项

一种集成电路芯片清洗剂，其特征在于，包括以下按重量份数计的原料：柠檬酸5‑8份，甘油5‑8份，乙醇10‑15份，聚氧乙烯醚20‑28份，双氧水12‑18份，氢氧化铵2‑6份，丁烷15‑22份，烷基醇酰胺10‑16份。