[发明专利]包括自组装嵌段共聚物的膜和通过旋涂涂覆制造该膜的方法(Ia)有效
| 申请号： | 201510363815.0 | 申请日： | 2015-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN105131326B | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | K·A-H·H·阿米尔;S·石 | 申请（专利权）人： | 帕尔公司 |
| 主分类号： | C08J9/26 | 分类号： | C08J9/26;C08J5/18;C08J7/00;C08L53/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 汪宇伟 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
公开了式(I)的自组装二嵌段共聚物形成的膜： |
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| 搜索关键词： | 二嵌段共聚物 式( I ) 纳米多孔膜 自组装 涂覆 旋涂 制备 自组装嵌段共聚物 退火 聚合物溶液 溶剂混合物 溶剂蒸气 薄膜层 溶剂 薄膜 浸泡 制造 | ||
【主权项】：
1.一种制备包含式(I)的二嵌段共聚物的多孔膜的方法：![]()
其中：R1为任选被选自卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代的C1‑C22烷基，或任选被选自烷基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代的C3‑C11环烷基；R2为任选被选自羟基、氨基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代的C6‑C20芳基或杂芳基；R3和R4之一为任选被选自羟基、卤素、氨基和硝基的取代基取代的C6‑C14芳基，且R3和R4中另一个为任选被选自羧基、氨基、巯基、炔基、烯基、卤素、叠氮基和杂环基的取代基取代的C1‑C22烷氧基；和n和m独立地为10至2000；其中，含有R2的单体体积分数与含有R1的单体之比是2.3到5.6：1，所述方法包括：(i)在溶剂体系中溶解所述二嵌段共聚物，以获得聚合物溶液；(ii)将所述聚合物溶液旋涂到基材上；(iii)将在(ii)中获得的涂层退火，以获得自组装结构或多孔膜；(iv)将在(iii)中获得的自组装结构浸泡在溶剂或溶剂混合物中，以获得多孔膜；和任选(v)洗涤在(iii)或(iv)中获得的多孔膜。
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