[发明专利]包括自组装嵌段共聚物的膜和通过旋涂涂覆制造该膜的方法(Ia)

权利要求书

1.一种制备包含式(I)的二嵌段共聚物的多孔膜的方法：

其中：

R¹为任选被选自卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代的C₁-C₂₂烷基，或任选被选自烷基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代的C₃-C₁₁环烷基；

R²为任选被选自羟基、氨基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代的C₆-C₂₀芳基或杂芳基；

R³和R⁴之一为任选被选自羟基、卤素、氨基和硝基的取代基取代的C₆-C₁₄芳基，且R³和R⁴中另一个为任选被选自羧基、氨基、巯基、炔基、烯基、卤素、叠氮基和杂环基的取代基取代的C₁-C₂₂烷氧基；和

n和m独立地为10至2000；其中，含有R²的单体体积分数与含有R¹的单体之比是2.3到5.6：1，

所述方法包括：

(i)在溶剂体系中溶解所述二嵌段共聚物，以获得聚合物溶液；

(ii)将所述聚合物溶液旋涂到基材上；

(iii)将在(ii)中获得的涂层退火，以获得自组装结构或多孔膜；

(iv)将在(iii)中获得的自组装结构浸泡在溶剂或溶剂混合物中，以获得多孔膜；和任选

(v)洗涤在(iii)或(iv)中获得的多孔膜。

2.权利要求1所述的方法，其中R¹为任选被选自卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代的C₁₀-C₁₈烷基。

3.权利要求1或2所述的方法，其中R²为任选被选自羟基、氨基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代的苯基。

4.权利要求1或2所述的方法，其中R³为苯基。

5.权利要求1或2所述的方法，其中R⁴为C₁-C₆烷氧基。

6.权利要求1或2所述的方法，其中n为10至200和m为50至2000。

7.权利要求1或2所述的方法，其中n为83至190和m为675至1525。

8.权利要求1或2所述的方法，其中n为105和m为870。

9.权利要求1或2所述的方法，其中所述式(I)的二嵌段共聚物具有下述结构：

10.权利要求1或2所述的方法，其中所述溶剂体系包括选自卤代烃、醚、酰胺和亚砜的溶剂或溶剂的混合物。

11.权利要求1或2所述的方法，其中所述溶剂体系包括选自二氯甲烷、1-氯戊烷、1,1-二氯乙烷、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、四氢呋喃、1,3-二噁烷和1,4-二噁烷的溶剂或溶剂的混合物。

12.权利要求1或2所述的方法，其中所述聚合物溶液含有0.1至2重量％的所述二嵌段共聚物。

13.权利要求1或2所述的方法，其中所述基材选自玻璃、硅晶片、金属板、塑料膜、和涂布在玻璃基材上或在硅晶片上的塑料膜。

14.权利要求1或2所述的方法，其中所述基材是多孔的。