[发明专利]离子注入装置有效
| 申请号: | 201510349298.1 | 申请日: | 2015-06-23 |
| 公开(公告)号: | CN105280468B | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
| 发明(设计)人: | 天野吉隆 | 申请(专利权)人: | 斯伊恩股份有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 徐殿军 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明提供一种能够广范围使用的离子注入装置及离子注入方法。本发明的离子注入装置具备透镜电极单元(802),其具备用于使离子束平行的多个电极;及真空单元(804),将透镜电极单元(802)容纳于真空环境中。真空单元(804)具备第1真空容器(806),其具备第1导电性容器壁(814);第2真空容器(808),其具备第2导电性容器壁(816);及绝缘性容器壁(810),将第1真空容器(806)与第2真空容器(808)彼此连通,且使第1导电性容器壁(814)与第2导电性容器壁(816)绝缘。设有使透镜电极单元802的多个电极中的至少1个电极与第1导电性容器壁(814)及第2导电性容器壁(816)中的至少一方绝缘的绝缘部件(828),绝缘部件(828)与透镜电极单元(802)一起容纳于真空环境中。 | ||
| 搜索关键词: | 离子 注入 装置 | ||
【主权项】:
一种离子注入装置,其特征在于,具备:透镜电极单元,其具备用于使离子束平行的多个电极;及真空单元,其构成为将所述透镜电极单元容纳于真空环境中,所述真空单元具备:第1真空容器,其具备第1导电性容器壁;第2真空容器,其具备第2导电性容器壁;及绝缘性容器壁,将所述第1真空容器连接于所述第2真空容器,以使所述第1真空容器与所述第2真空容器彼此连通,且使所述第1导电性容器壁与所述第2导电性容器壁绝缘,所述离子注入装置还具备绝缘部件,其使所述多个电极中的至少1个电极与所述第1导电性容器壁及所述第2导电性容器壁中的至少一方绝缘,所述绝缘部件与所述透镜电极单元一起容纳于所述真空环境中。
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