[发明专利]一种FBAR器件的封装结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201510325187.7 申请日: 2015-06-15
公开(公告)号: CN105097714A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 杨清华;欧毅;刘杰;赖亚明;吴光胜;顾程先;陈庆;朱丽娜 申请(专利权)人: 贵州中科汉天下电子有限公司
主分类号: H01L23/02 分类号: H01L23/02;H01L23/48;H01L21/50
代理公司: 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 代理人: 冯谱
地址: 556000 贵州省黔东南苗族侗族自治州凯*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 发明提供了一种FBAR器件的封装结构,所述封装结构包括衬底、至少一个第一凹槽、焊盘、第二凹槽、第一电极层、第二电极层和至少一个FBAR器件片:所述衬底的上表面形成至少一个第一凹槽;所述第一凹槽两侧各形成一个焊盘;所述第二凹槽形成于所述焊盘的表面上;所述FBAR器件与所述焊盘键合,且FBAR器件的电极置于所述第一凹槽内;所述第一电极层形成于所述衬底的下表面上,同时覆盖所述第二凹槽的顶部和侧壁;所述第二电极层形成于所述第一电极层的下表面上。相应地,本发明还公开了一种FBAR器件封装结构的制造方法。实施本发明可降低封装工艺的难度,优化了生产工艺和生产周期,使封装成本大幅下降。
搜索关键词: 一种 fbar 器件 封装 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种FBAR器件的封装结构,所述封装结构包括衬底、至少一个第一凹槽、焊盘、第二凹槽、第一电极层、第二电极层和至少一个FBAR器件,其特征在于:所述衬底的上表面形成至少一个第一凹槽;所述第一凹槽两侧各形成一个焊盘;所述第二凹槽形成于所述焊盘的表面上;所述FBAR器件与所述焊盘键合,且FBAR器件的电极置于所述第一凹槽内;所述第一电极层形成于所述衬底的下表面上,同时覆盖所述第二凹槽的顶部和侧壁;所述第二电极层形成于所述第一电极层的下表面上。
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