[发明专利]校准DMD光刻系统中投影镜头焦面和相机焦面位置的方法有效
申请号: | 201510316642.7 | 申请日: | 2015-06-10 |
公开(公告)号: | CN104950592B | 公开(公告)日: | 2017-02-01 |
发明(设计)人: | 刘华;卢振武;党博石;谭向全;郑黎明;孙强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所22210 | 代理人: | 田春梅 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 校准DMD光刻系统中投影镜头焦面和相机焦面位置的方法属于确定DMD光刻系统中投影镜头焦平面和相机的焦平面位置的校准方法领域,该方法设计了一种辅助对焦分划板,借助该分划板规律断续的外轮廓线边缘,可以在校准过程中快速判断分划板的端面倾角姿态是否与光轴垂直;利用反光镀膜间隔条纹可以判断分划板沿光轴方向的距离位置是否适中。分划板上其余未被反光镀膜间隔条纹覆盖的透光条纹区域用于透过DMD的光条图案,可以方便相机或显微镜对焦;反光镀膜间隔条纹和规律断续的外轮廓线边缘相结合,还兼具向CCD调焦相机反射DMD的光条图案和辅助CCD调焦相机倾角姿态校准的作用。该方法在校准投影镜头焦面和相机焦面的同时还分别校准了其二者的倾角姿态。 | ||
搜索关键词: | 校准 dmd 光刻 系统 投影 镜头 相机 位置 方法 | ||
【主权项】:
校准DMD光刻系统中投影镜头焦面和相机焦面位置的方法,其特征在于:该方法包括如下步骤:步骤一:制作一种分划板(8)作为对焦辅助装置,该分划板(8)采用玻璃或有机玻璃薄板,将其上端面沿直径对称分为区域A和区域B两半,并分别在区域A和区域B上镀上反光镀膜间隔条纹(8‑2),所述反光镀膜间隔条纹(8‑2)彼此平行且宽度均相同,它们的条纹间距也均相等;反光镀膜间隔条纹(8‑2)的间隙部分形成透光条纹(8‑1);反光镀膜间隔条纹(8‑2)和透光条纹(8‑1)均与分划板(8)上端面的外轮廓线相交并形成界限清晰且规律断续的外轮廓线边缘(8‑3);所述反光镀膜间隔条纹(8‑2)是上端面呈镜面的反光金属镀膜,其反光表面向上;而反光镀膜间隔条纹(8‑2)的下表面并不反光;步骤二:微调显微镜(7)的焦距,并使视野中的DMD光条图案整体清晰可见,固定显微镜(7)的位置并保持其焦距不变;步骤三:将分划板(8)置于投影镜头(4)与显微镜(7)之间,并将反光镀膜间隔条纹(8‑2)的上端面朝向投影镜头(4)所在的方向,然后用显微镜(7)从分划板(8)的下端面同时观察分划板(8)的下端面以及DMD光条图案,并调节分划板(8)在光轴上的位置及其端面的方位倾角;反光镀膜间隔条纹(8‑2)会直接对DMD光条图案形成部分遮挡,并在DMD光条图案中原本白色的明亮光带上形成间隔的黑色线段阴影阵列,但另一部分DMD光条光线则直接穿过透光条纹(8‑1)入射到显微镜(7)中,并形成间隔的明亮线段的阵列;用显微镜(7)观察前述线段阴影阵列,并沿投影镜头(4)的光轴方向调整分划板(8)的位置,当所述线段阴影阵列均清晰可辨时,固定分划板(8)在投影镜头(4)的光轴方向上的相对位置;步骤四:继续用显微镜(7)观察规律断续的外轮廓线边缘(8‑3),并调整分划板(8)的倾角姿态,当所述外轮廓线边缘(8‑3)整体清晰时,停止调整分划板(8)的倾角姿态;至此,已完成了用步骤一所述的分划板(8)确定投影镜头(4)焦平面位置的调焦过程;步骤五:保持分划板(8)的位置不变,并以分划板(8)为拍摄对象,使CCD调焦相机(6)对焦并观察其成像影像,当DMD光条图案以及分划板(8)外轮廓线边缘(8‑3)均整体清晰时,保持CCD倾角姿态不变,即完成了CCD调焦相机(6)的倾角姿态调整过程;步骤六:进一步对步骤五所述CCD调焦相机(6)进行对焦,当CCD调焦相机(6)所成像的反光镀膜间隔条纹(8‑2)和透光条纹(8‑1)均清晰时,即完成了用步骤一所述的分划板(8)确定CCD调焦相机(6)倾角和焦平面位置的调焦过程。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510316642.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。