[发明专利]校准DMD光刻系统中投影镜头焦面和相机焦面位置的方法

权利要求书

1.校准DMD光刻系统中投影镜头焦面和相机焦面位置的新方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：

步骤一：制作一种新型的分划板作为对焦辅助装置，该分划板(8)采用玻璃或有机玻璃薄板，将其上端面沿直径对称分为区域A和区域B两半，并分别在区域A和区域B上镀上反光镀膜间隔条纹(8-2)，所述反光镀膜间隔条纹(8-2)彼此平行且宽度均相同，它们的条纹间距也均相等；反光镀膜间隔条纹(8-2)的间隙部分形成透光条纹(8-1)；反光镀膜间隔条纹(8-2)和透光条纹(8-1)均与分划板(8)上端面的外轮廓线相交并形成界限清晰且规律断续的外轮廓线边缘(8-3)；所述反光镀膜间隔条纹(8-2)是上端面呈镜面的反光金属镀膜，其反光表面向上；而反光镀膜间隔条纹(8-2)的下表面并不反光；

步骤二：微调显微镜(7)的焦距，并使视野中的DMD光条图案整体清晰可见，固定显微镜(7)的位置并保持其焦距不变；

步骤三：将分划板(8)置于投影镜头(4)与显微镜7之间，并将反光镀膜间隔条纹(8-2)的上端面朝向投影镜头(4)所在的方向，然后用显微镜(7)从分划板(8)的下端面同时观察分划板(8)的下端面以及DMD光条图案，并调节分划板(8)在光轴上的位置及其端面的方位倾角；

反光镀膜间隔条纹(8-2)会直接对DMD光条图案形成部分遮挡，并在DMD光条图案中原本白色的明亮光带上形成间隔的黑色线段阴影阵列，但另一部分DMD光条光线则直接穿过透光条纹(8-1)入射到显微镜(7)中，并形成间隔的明亮线段的阵列；

用显微镜(7)观察前述线段阴影阵列，并沿投影镜头(4)的光轴方向调整分划板(8)的位置，当所述线段阴影阵列均清晰可辨时，固定分划板(8)在投影镜头(4)的光轴方向上的相对位置；

步骤四：继续用显微镜(7)观察规律断续的外轮廓线边缘(8-3)，并调整分划板(8)的倾角姿态，当所述外轮廓线边缘(8-3)整体清晰时，停止调整分划板(8)的倾角姿态；至此，已完成了用步骤一所述的新型分划板(8)确定投影镜头(4)焦平面位置的调焦过程；

步骤五：保持分划板(8)的位置不变，并以分划板(8)为拍摄对象，使CCD调焦相机(6)对焦并观察其成像影像，当DMD光条图案以及分划板(8)外轮廓线边缘(8-3)均整体清晰时，保持CCD倾角姿态不变，即完成了CCD调焦相机(6)的倾角姿态调整过程；

步骤六：进一步对步骤五所述CCD调焦相机(6)进行对焦，当CCD调焦相机(6)所成像的反光镀膜间隔条纹(8-2)和透光条纹(8-1)均清晰时，即完成了用步骤一所述的新型分划板(8)确定CCD调焦相机(6)倾角和焦平面位置的调焦过程。