[发明专利]金属纳米颗粒平均粒径的测量系统及测量方法有效
| 申请号: | 201510301700.9 | 申请日: | 2015-06-05 |
| 公开(公告)号: | CN105092431B | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
| 发明(设计)人: | 白本锋;肖晓飞;刘祯 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
| 主分类号: | G01N15/02 | 分类号: | G01N15/02 |
| 代理公司: | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司44311 | 代理人: | 哈达 |
| 地址: | 100084 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明提供一种金属纳米颗粒粒径的测量系统,包括一光源模组,一样品池,一光电探测单元以及一数据处理单元;所述光源模组用于依次发出的两个波长为和单色光;所述样品池用于承载参考样品及待测样品,光源模组输出的光经过样品池后进入光电探测单元,经光电探测单元处理后输入数据处理单元;所述数据处理单元包括在和两个波长下,金属纳米颗粒的吸光度比值与粒径之间对应关系的第一数据处理模组;以及在和两个波长下,金属纳米颗粒修正后的吸光度比值与平均粒径之间对应关系的第二数据处理模组。本发明进一步提供一种利用所述金属纳米颗粒粒径的测量系统测量粒径的方法。 | ||
| 搜索关键词: | 金属 纳米 颗粒 平均 粒径 测量 系统 测量方法 | ||
【主权项】:
一种金属纳米颗粒粒径的测量系统,包括:一光源模组,一样品池,一光电探测单元以及一数据处理单元;其特征在于,所述光源模组用于依次发出的两个波长为λ1和λ2单色光;所述样品池用于承载参考样品及待测样品,光源模组输出的光经过样品池后进入光电探测单元,经光电探测单元处理后输入数据处理单元;所述数据处理单元包括在λ1和λ2两个波长下,金属纳米颗粒的吸光度比值与粒径D之间对应关系的第一数据处理模组,包括吸光度比值吸光度和平均消光截面<Cext>与粒径D之间关系的数据库<Cext(λ1,D,AR,CV)>和<Cext(λ2,D,AR,CV)>,其中,AR表示金属纳米颗粒的长宽比,CV表示样品分散性;以及在λ1和λ2两个波长下,金属纳米颗粒修正后的吸光度比值与平均粒径之间对应关系的第二数据处理模组,包括修正后的吸光度比值吸光度和平均消光截面<Cext>与平均粒径之间关系的数据库<Cext(λ1,D,AR,CV)>和<Cext(λ2,D,AR,CV)>。
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